铜靶
元素符号：Cu
密度：8.96g/cm3
熔点：1085℃
沸点：2562℃
纯度：99.99% 99.999%
商品详情:
铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域。
分享
描述
欢迎您访问福建赛纳尔新材料科技有限公司-光学晶体材料、光学镀膜材料、高纯金属材料、合金材料
13385978315
科技创新驱动，推进优势产业
版权所有 © 福建赛纳尔新材料科技有限公司 闽ICP备2022018484号